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偏壓對(duì)高功率脈沖磁控濺射法沉積MoN涂層結(jié)構(gòu)及性能的影響

來(lái)源: 華匯儀器作者: 管理員時(shí)間: 2024-07-31 點(diǎn)擊: 639 次

EI-偏壓對(duì)高功率脈沖磁控濺射法沉積MoN涂層結(jié)構(gòu)及性能的影響.pdf

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